การสังเคราะห์และสมบัติเชิงฟิสิกส์ของฟิล์มบาง Al-ZnO โดยวิธีไอระเหยความร้อน

ฟิล์มบาง Al-ZnO ถูกสังเคราะห์โดยวิธีไอระเหยความร้อนซิงค์อะซีเตทและอลูมิเนียมคลอไรด์ถูกใช้เป็นสารตั้งต้น กระบวนการสังเคราะห์ฟิล์มบางถูกทำในระบบสุญญากาศที่ประกอบไปด้วยปั๊มแพร่ไอและโรตารี่ปั๊มที่ความดัน 50 มิลลิทอรร์ ฟิล์มถูกอบร้อนในความดันบรรยากาศที่อุณหภูมิ 450 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 30 นาที และได้นำไปศึกษาสมบัติบ่งชี้ด้วยเทคนิคการเลี้ยวเบนรังสีเอกซ์ การวัดการทะลุผ่านของแสงและวัดความต้านทานด้วยเทคนิคสี่ขั้ว ฟิล์มมีโครงสร้างเป็นเฮกซะโกนอลและมีความต้านทานประมาณ 50 โอห์มต่อตารางพื้นที่ การยึดติดแน่นของฟิล์มอยู่ในเกณฑ์ดีและมีการส่งผ่านของแสงประมาณร้อยละ 80